电(dian)路板(ban)(ban)生(sheng)(sheng)(sheng)产(chan)过(guo)程(cheng)中，FPC/PCB湿(shi)流(liu)程(cheng)绝大(da)(da)(da)部(bu)分工(gong)艺(yi)(yi)都是相似的(de)。各(ge)个(ge)工(gong)艺(yi)(yi)环(huan)节(jie)对纯水(shui)的(de)要(yao)求(qiu)(qiu)也(ye)是大(da)(da)(da)同小异(yi)(yi)。我们在(zai)线路板(ban)(ban)生(sheng)(sheng)(sheng)产(chan)过(guo)程(cheng)中常用到的(de)电(dian)镀铜，锡(xi)，镍(nie)(nie)金(jin)；化学镀镍(nie)(nie)金(jin)；PTH/黑孔；表面处理蚀刻(ke)等生(sheng)(sheng)(sheng)产(chan)过(guo)程(cheng)都需要(yao)用到不同要(yao)求(qiu)(qiu)的(de)纯水(shui)。因为(wei)(wei)线路板(ban)(ban)生(sheng)(sheng)(sheng)产(chan)过(guo)程(cheng)中使(shi)用的(de)药水(shui)不同，生(sheng)(sheng)(sheng)产(chan)工(gong)艺(yi)(yi)流(liu)程(cheng)的(de)差(cha)异(yi)(yi)，对纯水(shui)的(de)品质(zhi)要(yao)求(qiu)(qiu)也(ye)不一(yi)样。（最关键(jian)的(de)指标是：电(dian)导率(lv)（电(dian)阻率(lv)），总硅，pH值，颗(ke)粒度。）线路板(ban)(ban)、电(dian)路板(ban)(ban)用纯水(shui)因为(wei)(wei)本身工(gong)艺(yi)(yi)流(liu)程(cheng)的(de)不同对纯水(shui)制造的(de)工(gong)艺(yi)(yi)流(liu)程(cheng)也(ye)不同。按(an)照目前绝大(da)(da)(da)部(bu)分线路板(ban)(ban)厂的(de)使(shi)用情况来看，大(da)(da)(da)概分为(wei)(wei)三种类型：预处理加(jia)离子(zi)交(jiao)换纯水(shui)系统；反(fan)渗透加(jia)离子(zi)交(jiao)换系统；高效反(fan)渗透EDI超纯水(shui)设备。

集成电路板生产用纯水设(she)备工(gong)艺(yi)说明：

1.采用(yong)(yong)双级反(fan)(fan)渗(shen)透(tou)方式，其流程如下：自来水(shui)→电动阀→多介质过滤器→活性炭过滤器→加药装置(zhi)→中间(jian)水(shui)箱→低压泵(beng)→精(jing)密过滤器→一级反(fan)(fan)渗(shen)透(tou)主机(ji)→PH调(diao)节→混合器→二级反(fan)(fan)渗(shen)透(tou)主机(ji)→纯水(shui)箱→纯水(shui)泵(beng)→微孔过滤器→用(yong)(yong)水(shui)点
2.采用(yong)高效反渗透(tou)加EDI方式，其流程(cheng)如下：自来(lai)水(shui)→电(dian)动阀→多介质过(guo)滤(lv)(lv)器→活性炭过(guo)滤(lv)(lv)器→加药(yao)装置→中(zhong)间水(shui)箱→低压泵→PH值调(diao)节(jie)系(xi)统→高效混合(he)器→精密过(guo)滤(lv)(lv)器→高效反渗透(tou)→中(zhong)间水(shui)箱→EDI水(shui)泵→EDI系(xi)统→微孔过(guo)滤(lv)(lv)器→用(yong)水(shui)点(dian)

河南万(wan)达环保集成电路板生产用(yong)纯水设备产品特(te)点：

1.出(chu)水(shui)水(shui)质稳定。
2.连(lian)续不间(jian)断造水(shui)，勿需因树(shu)脂再生而停机(ji)。
3.无(wu)需(xu)用化(hua)学(xue)酸碱再生。
4.堆叠式设计，占地空(kong)间小。
5.操作简单、安全。
6.运行费用及(ji)维修成(cheng)本低(di)。
7.无酸碱储备(bei)及运输(shu)费用。
8.PLC全自动操作，勿需人(ren)员(yuan)操作。

集成电路板生(sheng)产(chan)用纯水设备产(chan)品参数(shu)：

1.电导率：2-10μS/cm（25℃）
2.PH值：6.5－9
3.水温度：5～35℃
4.总硬(ying)度：<0.5ppm
5.有机(ji)物：<0.5 ppm,TOC为零
6.氧化(hua)物：≤0.05ppm
7.铁、锰：<0.01ppm
8.二氧化(hua)硅：<0.05 ppm
8.二(er)氧化(hua)碳(tan)：<5ppm