在(zai)(zai)晶体管、集(ji)(ji)成(cheng)(cheng)电路生(sheng)产中(zhong)，纯水主要用(yong)于清洗(xi)硅片(pian)(pian)，清洗(xi)的(de)目的(de)在(zai)(zai)于清除表面污染杂质，包括有(you)机物(wu)和无机物(wu)，另有(you)少量(liang)用(yong)于药(yao)液(ye)配制，硅片(pian)(pian)氧化(hua)的(de)水汽源，部分设(she)备(bei)的(de)冷却水，配制电镀液(ye)等。集(ji)(ji)成(cheng)(cheng)电路生(sheng)产过程中(zhong)的(de)80%的(de)工序需(xu)要使用(yong)高纯水清洗(xi)硅片(pian)(pian)，水质的(de)好坏(huai)与集(ji)(ji)成(cheng)(cheng)电路的(de)产品质量(liang)及生(sheng)产成(cheng)(cheng)品率(lv)关(guan)系很大。河南(nan)万达环保生(sheng)产的(de)超纯水设(she)备(bei)用(yong)于硅片(pian)(pian)生(sheng)产等电子半导体行业，能满足客户(hu)的(de)用(yong)水要求(qiu)。

电子(zi)半(ban)导体行(xing)业用纯水设备工艺介绍：

1.原水(shui)(shui)→原水(shui)(shui)加压(ya)泵→多介质过(guo)滤器(qi)→活性炭过(guo)滤器(qi)→加药(yao)装置→精(jing)密过(guo)滤器(qi)→高压(ya)泵1→一级(ji)反(fan)渗透→中间水(shui)(shui)箱→高压(ya)泵2→二(er)级(ji)反(fan)渗透→纯(chun)化(hua)水(shui)(shui)箱→纯(chun)水(shui)(shui)泵→紫(zi)外(wai)线杀(sha)菌器(qi)→微(wei)孔过(guo)滤器(qi)→用水(shui)(shui)点
2.原水(shui)→原水(shui)加(jia)压泵(beng)(beng)(beng)→多(duo)介质过滤器(qi)→活(huo)性炭过滤器(qi)→加(jia)药装置→精密过滤器(qi)→高压泵(beng)(beng)(beng)1一级反渗透(tou)机→中间(jian)水(shui)箱→中间(jian)水(shui)泵(beng)(beng)(beng)→EDI系统→纯化水(shui)箱→纯水(shui)泵(beng)(beng)(beng)→紫外(wai)线杀菌器(qi)→微(wei)孔过滤器(qi)→用水(shui)点

河南万达环(huan)保(bao)电子半导体行业(ye)用(yong)纯水(shui)设备(bei)产品特点：

1.连续运行产水质(zhi)稳定品质(zhi)更佳。
2.系统运行(xing)可靠性稳定。
3.运行成本低。
4.占地面(mian)积小。
5.自动化(hua)程度高。
6.操作(zuo)及维护简(jian)单，无(wu)需接触酸碱。
7.使用(yong)安全及环境良好。
8.无污水(shui)排放，无环境(jing)污染(ran)。

河南(nan)万达环保电(dian)子(zi)半导体行业用纯水设备产(chan)品参数(shu)：

1.电导率：2-10μS/cm（25℃）
2.PH值(zhi)：6.5－9
3.水温度(du)：5～35℃
4.总(zong)硬(ying)度：<0.5ppm
5.有(you)机物：<0.5 ppm,TOC为零
6.氧化物：≤0.05ppm
7.铁、锰：<0.01ppm
8.二氧化硅：<0.05 ppm
9.二氧化碳：<5ppm