在晶体(ti)(ti)管、集(ji)成电(dian)路生(sheng)(sheng)产(chan)(chan)(chan)中，纯水(shui)(shui)(shui)(shui)主(zhu)要用于(yu)清洗(xi)硅片(pian)，清洗(xi)的(de)目的(de)在于(yu)清除(chu)表面(mian)污染(ran)杂质，包括(kuo)有机物和(he)无机物，另有少量(liang)用于(yu)药液(ye)配制，硅片(pian)氧化的(de)水(shui)(shui)(shui)(shui)汽(qi)源，部分(fen)设备的(de)冷(leng)却水(shui)(shui)(shui)(shui)，配制电(dian)镀液(ye)等。集(ji)成电(dian)路生(sheng)(sheng)产(chan)(chan)(chan)过(guo)程中的(de)80%的(de)工序需要使用高纯水(shui)(shui)(shui)(shui)清洗(xi)硅片(pian)，水(shui)(shui)(shui)(shui)质的(de)好(hao)坏与集(ji)成电(dian)路的(de)产(chan)(chan)(chan)品质量(liang)及生(sheng)(sheng)产(chan)(chan)(chan)成品率关系很(hen)大。河南万(wan)达环保生(sheng)(sheng)产(chan)(chan)(chan)的(de)超纯水(shui)(shui)(shui)(shui)设备用于(yu)硅片(pian)生(sheng)(sheng)产(chan)(chan)(chan)等电(dian)子半导体(ti)(ti)行业(ye)，能满足客户的(de)用水(shui)(shui)(shui)(shui)要求。

电子半导体行(xing)业(ye)用纯水设(she)备工艺(yi)介绍(shao)：

1.原水(shui)→原水(shui)加(jia)压泵(beng)→多介质过滤器(qi)(qi)→活性炭过滤器(qi)(qi)→加(jia)药装置(zhi)→精密过滤器(qi)(qi)→高压泵(beng)1→一级反渗透→中间(jian)水(shui)箱→高压泵(beng)2→二(er)级反渗透→纯(chun)化水(shui)箱→纯(chun)水(shui)泵(beng)→紫(zi)外线杀菌器(qi)(qi)→微孔过滤器(qi)(qi)→用(yong)水(shui)点
2.原水(shui)(shui)(shui)(shui)→原水(shui)(shui)(shui)(shui)加压泵→多介(jie)质过(guo)滤(lv)器(qi)→活性炭(tan)过(guo)滤(lv)器(qi)→加药装置→精密过(guo)滤(lv)器(qi)→高压泵1一级反渗透机→中间(jian)水(shui)(shui)(shui)(shui)箱(xiang)→中间(jian)水(shui)(shui)(shui)(shui)泵→EDI系统→纯(chun)化(hua)水(shui)(shui)(shui)(shui)箱(xiang)→纯(chun)水(shui)(shui)(shui)(shui)泵→紫外线杀(sha)菌器(qi)→微孔过(guo)滤(lv)器(qi)→用水(shui)(shui)(shui)(shui)点

河南万(wan)达(da)环保电子半导体(ti)行业用纯(chun)水设备产(chan)品特点：

1.连续运(yun)行产(chan)水(shui)质(zhi)(zhi)稳定品质(zhi)(zhi)更佳。
2.系统运行(xing)可靠性稳(wen)定。
3.运行成本低。
4.占地面积小。
5.自(zi)动化程度高。
6.操作及维护简单，无需接触酸碱。
7.使用(yong)安全及环境良好(hao)。
8.无污水(shui)排放，无环(huan)境污染。

河南万达环保电(dian)子半(ban)导体(ti)行业(ye)用纯(chun)水设备产品参数：

1.电(dian)导(dao)率(lv)：2-10μS/cm（25℃）
2.PH值：6.5－9
3.水(shui)温度：5～35℃
4.总硬度：<0.5ppm
5.有机物：<0.5 ppm,TOC为零
6.氧化(hua)物：≤0.05ppm
7.铁、锰：<0.01ppm
8.二氧化硅：<0.05 ppm
9.二(er)氧化碳：<5ppm